さまざまな理由により、中国における先端プロセスの量産に関する実際の情報を入手することは困難でした。 最近、あるテクノロジー企業の幹部は中国が７ナノメートルの量産を達成したと述べ、これは大きな進歩だと述べた。 今日、ライトレジスト企業は、7nmフォトレジストも量産されたと発表しました。これは、先進7nmも日本への依存から脱却したことを意味します。

業界がチップ製造について語るとき、フォトリソグラフィー装置という主要な機器に焦点が当てられます。 実際、フォトリソグラフィー機械やその他の装置に加えて、高度なチップ製造プロセスには多くのチップ材料の助けも必要であり、フォトレジストもその 1 つです。 重要な素材であり、この分野では日本が有利である。

2020年から米国は中国への先端フォトリソグラフィー装置の販売を制限するようASMLに訴え、続いて日本に対して先端材料の中国への販売を阻止するよう訴えた。 日本は直ちに中国への23種類のチップ材料の輸出制限を発表した。 そのときになって初めて、日本がもともとチップ製造産業に属し、これほど強力な影響力を持っていたことを業界が発見したのです。

チップ材料産業では日本が絶対的な優位性を持っていると言われている。 台湾、韓国、米国のチップ製造会社はいずれも日本のチップ材料に依存しなければならず、TSMCは5ナノメートルや3ナノメートルを生産できない。 ノミ。 日本がチップ製造業界に強い影響力を持っていることがわかります。

しかし、日本はこの影響力を悪用することはできません。 数年前、日本は韓国と紛争を起こした。 日本は韓国への露光装置の供給を停止した。 韓国はすぐにサムスンやSKハイニックスなどの多くの韓国チップ企業を組織し、自社でフォトレジストを開発した。 2008年に韓国は先進的なフォトレジストを開発し、日本のフォトレジストは必要なくなったため、人々は日本のフォトレジストを後悔するようになりました。

中国もこれに向けて万全の準備を整えている。 同社は積極的に独自のフォトリソグラフィー装置を開発し、チップ製造産業チェーンの改善に努めています。 フォトレジストは中国が積極的に推進している重要な技術である。

数日前、ある国内企業は、開発に成功した7ナノメートルの高度なフォトレジストが生産開始され、国内のチップ製造企業に採用されたと発表した。 彼女が開発したフォトレジストは、G-line、ArFなどの多波長フォトレジストをカバーしました。 、ArFi など、成熟した 28 ナノメートル以上のプロセスから高度な 7 ナノメートル リソグラフィー マシンに至るまで、あらゆるものがローカライズされています。

7ナノメートルの局地化プロセスの量産化は、国内のチップ製造プロセスの独立性を高め、海外のチップ材料や設備への依存を脱し、独自の発展の道を歩み始めることを意味しており、日本のチップ材料産業はさらなる大きな打撃を受けることになるだろう。 結局のところ、中国はすでにチップ機器と材料の世界最大の市場であり、日本は韓国市場を失ったのだ。 再び中国市場を奪われると、日本のチップ材料・装置産業はさらに衰退することになる。

この中国のテクノロジー企業の幹部は、中国での 7 ナノメートル技術の量産が非常に重要であると信じています。 世界的に見ても比較的先進的なレベルに達しています。 また、7 ナノメートル技術を達成した世界で 4 番目の企業でもあります。 。 GlobalFoundries、UMCなど 14ナノメートルで止まりました。 中国は比較的先進的なプロセスを持っており、チップアーキテクチャ、ソフトウェアアルゴリズム、その他の側面の革新を通じて全体的なパフォーマンスをさらに向上させ、独自の方法を見つけることができます。

中国には世界で最も多くの人材がおり、中国人はチップ技術においてもユニークな才能を持っています。 世界最先端の技術を持つTSMCは、チップ技術において中国人のユニークな才能を反映しています。 NVIDIAやAMDと同様、中国人が経営している。 また、米国ではチップ技術の研究開発に携わる中国人技術者が多数おり、中国技術者は必ず困難を克服し、困難を克服できると信じていることがわかります。 チップに関しては独自の技術的道筋を見つけています。 自主的なイノベーションは空論ではありません。

原題：ハイテク企業幹部、純国産フォトレジスト7ナノメートルの量産を確認、日本への依存から脱却